一种形成大面积均匀稳定锂膜流的结构
发布时间：2017/10/22 10:55:54 阅读：
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[实用新型] 一种形成大面积均匀稳定锂膜流的结构
- 授权公告号：CN206574489U
- 授权公告日：2017.10.20
- 申请号：2016213804655
- 申请日：2016.12.16
- 专利权人：核工业西南物理研究院
- 发明人：张秀杰; 潘传杰; 许增裕
- 地址：610041四川省成都市双流西南航空港黄荆路5号
- 分类号：G21B1/13(2006.01)I 全部
- 专利代理机构：核工业专利中心11007
- 代理人：高安娜
- 同样的发明创造已同日申请发明专利
摘要： 本实用新型属于流体流动控制技术领域，具体涉及一种形成大面积均匀稳定锂膜流的结构，包括若干个相同的弧形底壁单元，所述弧形底壁单元的上表面为一个弧度较小连续变化的凸起的曲面，下表面为一个弧度较小连续变化的凹陷的曲面，相邻的两个弧形底壁单元平行连接，连接边为长边。本实用新型在工程上简单易行，通过底壁的特殊结构设计引导和控制液态锂膜流，防止其收缩而获得完全覆盖底壁的液态锂膜流系统，为解决在润湿性不好情况下如何实现大面积完全覆盖底壁的锂膜流系统提供了一种新的思路。该锂膜流系统不仅适用于入口膜厚及流速较大的情况，同时还适用于入口膜厚及流速较小的情况，适用范围较广。
