曝光装置
发布时间：2018/3/30 15:02:29 阅读：
次
[实用新型] 曝光装置
- 授权公告号：CN207164464U
- 授权公告日：2018.03.30
- 申请号：2015900010868
- 申请日：2015.12.16
- 专利权人：株式会社V技术
- 发明人：桥本和重; 新井敏成
- 地址：日本神奈川县
- 分类号：G03F7/20(2006.01)I; 全部
- G02F1/13(2006.01)I; G02F1/1337(2006.01)I; H01L21/027(2006.01)I
- 专利代理机构：中科专利商标代理有限责任公司11021
- 代理人：王婷
- 优先权：2014-262220 2014.12.25 JP
- PCT进入国家阶段日：2017.05.04
- PCT申请数据：PCT/JP2015/085179 2015.12.16
- PCT公布数据：WO2016/104271 JA 2016.06.30
摘要： 本实用新型提供一种曝光装置(1)，该曝光装置(1)的光照射部(10)设置于载置曝光对象物(W)的工作台(21)的上方，且设置为能够装卸棒状的光源(11)，关于该光照射部(10)，在曝光时将光照射部(10)配置为光源(11)的长边方向与曝光对象物(W)的扫描方向正交，且在更换光源(11)时使光照射部(10)从曝光时的位置旋转大致45度以上。由此，能够有效利用曝光装置(1)外的空间。
