套管型水冷坩埚及真空电子束熔炼装置
发布时间：2018/6/7 15:35:46 阅读：
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[实用新型] 套管型水冷坩埚及真空电子束熔炼装置
- 授权公告号：CN207452216U
- 授权公告日：2018.06.05
- 申请号：2017210135752
- 申请日：2017.08.14
- 专利权人：核工业理化工程研究院;
沈阳腾鳌真空技术有限公司 - 发明人：许文强;
慈连鳌; 赵国华; 高学林; 罗立平; 张晓卫
- 地址：300180天津市河东区津塘路168号
- 分类号：C22B9/22(2006.01)I 全部
- 专利代理机构：天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙)12214
- 代理人：周庆路
- 同样的发明创造已同日申请发明专利
摘要： 本实用新型公开了一种套管型水冷坩埚，包括，坩埚，其顶部形成有物料池，在底部分布有多个水孔，所述的水孔两两为一组且由水槽连通，其中，n为偶数；底座，其固定设置在坩埚底部并将所述的水孔的下端口密封，所述的底座包括其上形成有多个通孔的底座板，所述的水槽互不直接连通，所述的连通部互不直接连通，所述的水孔、水槽、导水管及连通部构成整体单向通道。本实用新型抛弃了真空钎焊结构，在坩埚体内无焊缝，避免了漏水的安全隐患，提高了设备的可靠性，降低了加工成本，通过打水孔和内嵌导水管的方式形成循环水道，可以保证加工精度，可通过调整孔径和水孔位置灵活调整水道冷却面积，使得冷却面积增大，满足不同热负荷的要求。
